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古诗山衔落日浸寒漪,山衔落日浸寒漪的诗意是什么 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国家(jiā)知识产(chǎn)权局(jú)局长申长雨在新闻发布会上表示,将统筹推进各类知识产权法(fǎ)律法规和制度规(guī)则的制修订工(gōng)作(zuò)。其中,修改(gǎi)完善集成电路布图设计保护(hù)条例,适应大规模(mó)集成电路发(fā)展需(xū)要,助(zhù)力芯片产(chǎn)业做大做强,服(fú)务数字经济更好(hǎo)发(fā)展。

  加强大数据、人(rén)工智能、基(jī)因(yīn)技术等新领域新业态知识产权规则研究,助力相关领域创(古诗山衔落日浸寒漪,山衔落日浸寒漪的诗意是什么chuàng)新发展(zhǎn)。同时(shí),积极参与知识产权国际规则(zé)制定,更好对接高(gāo)标准国际经贸规则,助力高水(shuǐ)平对外开放。

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