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建军是哪一年 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国家(jiā)知识产权局局长(zhǎng)申长(zhǎng)雨在(zài)新闻(wén)发布(bù)会上表示,将(jiāng)统筹推进(jìn)各类(lèi)知(zhī)识产权法律(lǜ)法规(guī)和制(zhì)度规则的制修(xiū)订工作。其中,修改完善(shàn)集成电路布图设计保(bǎo)护条例,适应大(dà)规模(mó)集(jí)成电(diàn)路发展需要,助力芯片产业(yè)做大做强,服务数字经济(jì)更(gèng)好(hǎo)发(fā)展(zhǎn)。

  加强大数据、人工智能、基因技术等建军是哪一年新领域新业态(tài)知识产(chǎn)权(quán)规则研究,助力相关(guān)领域创新发展。同时,积极参与知识产权国际(jì)规(guī)则制定,更好对接高标(biāo)准(zhǔn)国际经(jīng)贸规则,助力高水(shuǐ)平对外开(kāi)放。

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