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什么的柳条填合适的词,什么的柳条填空 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日消息(xī),国家知识产权局(jú)局长(zhǎng)申长(zhǎng)雨在新闻(wén)发布会上(shàng)表(biǎo)示,将统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。其中,修改完善集成(chéng)电路布(bù)图设计(jì)保护条(tiáo)例,适应大规模(mó)集成电(diàn)路发展需要(yào),助力芯片产业做大做强,服务数(shù)字经济更(gèng)好发(fā)展。

  加强大(dà)数据、人工智能、基因技术(什么的柳条填合适的词,什么的柳条填空shù)等新领域(yù)新(xīn)业态知识产权规则(zé)研(yán)究,助力相关领域创新发展(zhǎn)。同时,积(jī)极参与知(zhī)识产权国际规则制定,更好对接高(gāo)标准国际经贸规则(zé),助力高水平对外开放。

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